晶闸管的导通条件_晶闸管的门极触发电流


在功率半导体行业,晶闸管无疑是不可或缺的重要元件之一。作为可控硅的一种,它在电流控制方面的独特能力,使其在各种电路中发挥着关键作用。

晶闸管的导通条件_晶闸管的门极触发电流

晶闸管,又称为可控硅(SCR),是一种能够通过开关方式控制电流的半导体器件。不同于传统的小功率器件如二极管和三极管,晶闸管能够在大电流条件下作为开关元件,广泛应用于功率控制电路中。

元件的性能往往与其内部结构紧密相关。晶闸管由四层半导体材料构成,形成PNPN的结构,其中包括三个PN结:J1、J2和J3。阳极a从顶部的P1层引出,阴极k则从底部的N2层引出,而控制极g则来自中间的P2层。

晶闸管的导通条件_晶闸管的门极触发电流

从结构上看,晶闸管等同于“pnp型”和“npn型”晶体管的复合电路。具体而言,pnp晶体管的发射极与npn晶体管的基极连接到晶闸管的g极;而pnp晶体管的基极与npn晶体管的集电极则串联连接。

晶闸管的导通条件_晶闸管的门极触发电流

下图展示了晶闸管的掺杂图,其中NPN晶体管等效发射极的阴极K被重掺杂,而门极G也同样重掺杂(P+)。两个中间层的掺杂程度较轻,分别是N-和P。

晶闸管的导通条件_晶闸管的门极触发电流

根据其等效电路,可以通过同时使两个晶体管V1和V2导通,使得晶闸管也随之导通。如何实现V1和V2的同时导通呢?三极管的导通与截止本质上是其内部PN结的单向导通与截止的过程。

晶闸管的导通条件_晶闸管的门极触发电流

我们需要在阳极和阴极之间施加正向电压,这样PN结J1和J3将会正偏导通,而J2则反偏截止。外加电压几乎全部作用于J2,由于J2反偏阻断电流,导致流经晶闸管的电流极小,因而晶闸管并未导通。

晶闸管的导通条件_晶闸管的门极触发电流

为了让晶闸管成功导通,需要使得承受反向电压的PN结J2失去阻挡能力。这时,我们在控制极GK两端也施加正向电压,产生足够的门极电流Ig流入晶体管V2。对于NPN型晶体管V2,发射结(J3)正偏,集电结(J2)反偏,进入放大状态。Ig经过V2放大后形成集电结电流Ic2。假设V2的放大系数为β2,那么Ic2可以表示为:Ic2=β2Ig。

由于V1的基极与V2的集电极相连,因此Ic2同样是V1的基极电流。这个基极电流再经过V1放大,形成集电极电流Ic1,假设V1的放大系数为β1,则可表示为:Ic1=β1Ic2=β1β2Ig。

由于V1的集电极和V2的基极都连接至g极,因此可以得出:Ic1=Ig,放大后的电流又会作为V2的基极电流继续被放大。如此反复,形成正反馈过程,使得晶闸管完全导通,V1和V2都达到饱和状态。这个导通过程在极短的时间内完成,通常不超过几微秒,称之为触发导通过程。

简单来说,晶闸管导通的基本条件是:加上阳极和门极的正向电压。

有趣的是,一旦晶闸管导通,即便去掉门极的正向电压,它也能依靠自身的正反馈维持导通状态,这使得晶闸管变成了不可控状态——一旦导通便无法轻易关断,这便是晶闸管被称为“半可控元件”的原因。它可以控制导通,但关断却是另一回事。

尽管晶闸管一旦触发导通后无法直接控制关断,但其实并非毫无办法。要想关断已导通的晶闸管,需要将流过其的电流减小到接近于零。此时控制门极电压的作用有限,只能通过降低或撤掉阳极的正向电压,增加电阻,甚至施加反向电压来使得电流逐渐降至零,从而实现关断。

晶闸管的优点不胜枚举。例如:

能以小功率控制大功率,功率放大倍数高达数十万倍;

响应极快,能够在微秒级别内完成开通与关断;

无触点运行,避免了火花和噪声;

高效率,且成本较低。

晶闸管在整流电路、静态旁路开关以及无触点输出开关等应用中表现优异,尤其在大功率不间断电源(UPS)系统中更是不可或缺。

晶闸管的缺点也值得注意,它在静态和动态下的过载能力较差,容易受到干扰而产生误导通。

晶闸管凭借其弱信号控制强信号的特性,可以在高电流环境下工作,属于大功率器件。仅需几十到一二百毫安的电流,施加两到三伏的电压便能控制几十安甚至千余伏的工作电流。这意味着它的功率放大倍数能够达到数十万倍以上,因而在许多晶体管放大器无法胜任的场合,晶闸管可发挥重要作用。

那么,晶闸管如何实现如此巨大的功率放大呢?正是依赖于自身的正反馈机制。如前所述,当晶闸管在正向门极电压作用下,从门极G流入电流Ig,经过NPN管V2和PNP管V1的放大后,Ig增大为:

Ig(当前)=β1β2Ig(原始)

经过增大后的Ig再流经NPN管的发射结,进一步提高放大系数β2,从而产生足够大的集电极电流IC2流过PNP管的发射结,并提升PNP管的电流放大系数β1,最终形成更大的集电极电流IC1流经NPN管的发射结。这个强烈的正反馈过程迅速进行,直至V1和V2饱和导通。

晶体管的放大系数β在正常情况下通常在几十到一百多的范围内,因此晶闸管的功率放大倍数能达到数十万倍以上。

功能上存在区别:

晶体管的主要功能包括检波、整流、放大、开关、稳压和信号调制等;而普通的晶闸管则专注于可控整流,因此也被称为可控硅。

优点上各有千秋:

晶闸管的优势在于可以通过小电流(或电压)控制大电流(或电压),其体积小、重量轻、功耗低、效率高且开关迅速。而晶体管则以高输入电阻、低噪声、低功耗、宽动态范围等特点见长。

分类上有所不同:

晶闸管根据引脚和极性可分为二极晶闸管、三极晶闸管及四极晶闸管等。而晶体管则主要分为双极性晶体管(BJT)和场效应晶体管(FET)。晶闸管

根据其导通、关断和控制方式,又可分为普通晶闸管、双向晶闸管、逆导晶闸管、门极关断晶闸管(GTO)、BTG晶闸管、温控晶闸管和光控晶闸管等多种类型。

自1957年问世以来,晶闸管经历了数十年的发展,已广泛应用于各类电路和电子设备中。随着新材料的不断出现和新工艺的引入,单只晶闸管的电流容量从最初的几安培提升至几千安培,耐压等级也从几百伏提高到几千伏,工作频率显著提升,其动态参数也有了显著改善。

展望未来,晶闸管的发展将朝着高电压、大电流、快速、模块化和功率集成化的方向迈进,成本也将不断降低。

如今,晶闸管在工业、交通、通信和消费电子等多个领域的应用愈发广泛,展现出其强大的适应性和持续发展的潜力。其在电力电子技术中的重要性将随着新兴技术的发展而不断增强,为现代社会的电力控制和能源管理提供更加高效和可靠的解决方案。

总体来看,晶闸管以其卓越的性能和广泛的应用领域,已成为功率半导体技术的核心元件之一。未来,随着技术的进步,晶闸管的设计和应用将进一步优化,以满足不断变化的市场需求。