刻蚀机与光刻机的区别是什么

近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司宣布其研制的5nm刻蚀机已经完成量产准备，预计在下半年交付给台积电投入生产使用。这一里程碑式的进展再次彰显了国产芯片制造产业的强大实力和不断突破的勇气。

芯片制造的每一个环节都至关重要，其中光刻机和刻蚀机更是备受关注。尽管在获取先进光刻机方面面临一些挑战，但我们的芯片制造产业并未气馁。刻蚀机作为芯片制造领域进展最快的环节，已经在工艺上取得了显著突破，从7nm跃进到5nm，这无疑是芯片制造产业链最亮眼的技术创新。

刻蚀机和光刻机是芯片制造中不可或缺的两大环节。光刻机负责刻画芯片线路，而刻蚀机则通过物理或化学方法，将光刻机刻画出的线路图转化为实际的晶片线路。业界人士指出，光刻机的成本占据芯片制造的近三成，而刻蚀机的成本则占20%-27%，可见刻蚀机在芯片制造中的重要性仅次于光刻机。

芯片制造产业正在积极利用现有基础推动发展。当前，国产芯片主要依赖14nm及更成熟工艺满足国内需求。由于全球芯片市场当前处于下行阶段，企业对于成本控制更为严格，这也使得28nm及更成熟工艺受到青睐。在这种情况下，三大芯片代工厂反而成为受益者，其营收增长速度在2021年超过了全球领先的台积电。

尽管台积电拥有先进的5nm工艺，但面对成熟工艺在芯片行业的青睐，他们也扩大了28nm工艺的产能，试图与的企业竞争。对于芯片行业来说，先进工艺仍然是未来的发展方向，因此芯片产业链仍需加快先进工艺的研发和进步。

在刻蚀机方面的突破，证明了芯片制造设备的技术壁垒并非不可逾越。刻蚀机的快速进步将推动芯片产业链加速技术研发，我们有信心芯片制造产业链将逐渐实现完全自主研发，打破现有桎梏。

面对在芯片制造领域的突破，拥有先进光刻机技术的AL公司开始感到压力。AL的高管曾表示，限制对出口光刻机不利于全球芯片供应链的良性发展。在刻蚀机方面的突破无疑验证了AL的预测。现在AL已经开始加大对市场的光刻机出口力度，希望在这个快速增长的市场中获得更多利益。