刻蚀机和光刻机虽然都用在芯片制造，但作用完全不同，刻蚀是“雕刻”电路图案，光刻是“打印”电路蓝图。

在芯片制造的复杂流程中，光刻机和刻蚀机扮演着截然不同的角色，尽管它们都是半导体工艺中不可或缺的关键设备。光刻机的作用更像是“打印电路蓝图”，它利用高精度的光源照射涂覆在硅片上的光刻胶，通过掩模版将预设的电路图案转移到光刻胶表面，形成微缩的图形。这个过程可以理解为将设计好的电路蓝图精确地“打印”到芯片的表面上，为后续的制造步骤奠定基础。而刻蚀机则承担着“雕刻电路图案”的任务，它通过物理或化学的方法，将光刻胶上形成的图案精确地“雕刻”到下方的硅片材料上，从而在硅片表面留下所需的电路结构。刻蚀过程可以看作是对光刻机“打印”的蓝图进行实际的“雕刻”，确保电路图案的精确性和可靠性。因此，光刻机和刻蚀机在芯片制造中各司其职，协同工作，共同推动着半导体技术的不断进步。